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ALD技术原理：
ALD技术优势：
思尔德技术优势： 采用原子层沉积（ALD）技术，其沉积参数的高度可控性（例如厚度，成分和结构），优异的沉积均匀性和致密性，使得其镀层的阻水率能达到10-5以上。
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