0512-82666555

核心优势

单原子层沉积(ALD)由于其沉积参数的高度可控性(厚度,成分和结构)。优异的沉积均匀性和致密性,使得其镀层的阻水率能达到10-3以上。

真空镀膜有蒸镀、溅射(PVD)、化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)。

未标题-1.jpg

公司地址

地址:江苏省苏州张家港市富民中路299号5幢思尔德

咨询热线

0512-82666555

189-6231-2156

企业邮箱

postmaster@shield-opto.com

苏ICP备2022001002号         版权所有:江苏思尔德科技有限公司

返回顶部 seo seo